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一种对包含氮化硅的刻蚀硬掩膜层的刻蚀方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201110250241.8
申请日：
2011-08-29
公开(公告)号：
CN102446727A
公开(公告)日：
2012-05-09
发明(设计)人：
景旭斌
杨斌
郭明升
申请人：
申请人地址：
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
IPC主分类号：
H01L2128
IPC分类号：
H01L21336
代理机构：
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人：
王敏杰
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-03-23 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101729775261 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2011102502418 申请公布日:20120509 |
| 2012-05-09 | 公开 | 公开 |
| 2012-06-27 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101271728109 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2011102502418 申请日:20110829 |