下层抗反射膜形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780047416.0

申请日：

2017-08-02

公开(公告)号：

CN109564388B

公开(公告)日：

2019-04-02

发明(设计)人：

仁川裕高市哲正河户俊二片山朋英

申请人：

申请人地址：

卢森堡国卢森堡市

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

代理机构：

北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216

代理人：

刘卓然

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-02	公开	公开
2019-09-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20170802
2022-11-11	授权	授权
2022-12-20	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/09 登记生效日:20221208 变更事项:专利权人变更前权利人:AZ电子材料(卢森堡)有限公司变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:卢森堡国卢森堡市变更后权利人:德国达姆施塔特

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

清水祥 ;

井形航维 ;

田村护 .

日本专利 :CN119301526A ,2025-01-10

[2]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

水落龙太 ;

田村护 .

日本专利 :CN121079643A ,2025-12-05

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

水落龙太 ;

井形航维 ;

田村护 .

日本专利 :CN120677437A ,2025-09-19

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

桥本圭祐 ;

中岛诚 ;

岸冈高广 .

中国专利 :CN112513738A ,2021-03-16

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

广原知忠 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN115427891A ,2022-12-02

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

绪方裕斗 ;

西卷裕和 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN114503032A ,2022-05-13

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

井形航维 ;

清水祥 ;

田村护 .

日本专利 :CN117836718A ,2024-04-05

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

广原知忠 ;

绪方裕斗 ;

田村护 .

日本专利 :CN119998732A ,2025-05-13

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

光武祐希 ;

德永光 .

日本专利 :CN120641829A ,2025-09-12

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

泉皓仁 ;

远藤雅久 .

日本专利 :CN120883140A ,2025-10-31

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