原子层沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010886205.X

申请日：

2020-08-28

公开(公告)号：

CN114107947A

公开(公告)日：

2022-03-01

发明(设计)人：

范天庆屈芙蓉冯嘉恒夏洋高圣刘晓静李国庆陶晓俊沈云华明帅强

申请人：

申请人地址：

215347 江苏省苏州市昆山市苇城南路1699号工研院综合大楼7层

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1656

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

薛娇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20200828
2022-03-01	公开	公开

共 50 条

[1]

原子层沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN116145109B ,2024-12-24

[2]

原子层沉积设备 [P].

申雄澈 ;

崔圭政 ;

白敏 ;

杨澈勋 .

中国专利 :CN111549332A ,2020-08-18

[3]

原子层沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN220846266U ,2024-04-26

[4]

原子层沉积设备 [P].

全祐奭 ;

裵哲敏 ;

徐才喜 .

韩国专利 :CN221797661U ,2024-10-01

[5]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

刘海博 ;

陈培杰 ;

罗丹 ;

张华敏 ;

胡汉彦 .

中国专利 :CN222008037U ,2024-11-15

[6]

原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P].

古尔特基·S·桑赫 ;

特鲁格·特里·多恩 .

中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26

[7]

原子层沉积设备 [P].

王祥慧 .

中国专利 :CN105463407A ,2016-04-06

[8]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

张华敏 ;

刘海博 ;

罗丹 .

中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27

[9]

原子层沉积设备 [P].

周友华 ;

庄国胜 .

中国专利 :CN106978599A ,2017-07-25

[10]

原子层沉积设备 [P].

杭天华 .

中国专利 :CN304842776S ,2018-10-09

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