一种原子层沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811637385.7

申请日：

2018-12-29

公开(公告)号：

CN109695026A

公开(公告)日：

2019-04-30

发明(设计)人：

李丙科

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新吴区鸿山街道锡协路208-10号

IPC主分类号：

C23C1640

IPC分类号：

C23C16455 C23C16458 H01L3118

代理机构：

北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411

代理人：

黄冠华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-30	公开	公开
2019-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/40 申请日:20181229

共 50 条

[1]

一种原子层沉积装置 [P].

李丙科 .

中国专利 :CN210163520U ,2020-03-20

[2]

原子层沉积装置 [P].

李丙科 ;

陈庆敏 .

中国专利 :CN209128536U ,2019-07-19

[3]

原子层沉积装置 [P].

李丙科 ;

陈庆敏 .

中国专利 :CN109023306A ,2018-12-18

[4]

一种原子层沉积装置 [P].

张亦哲 ;

明帅强 ;

李明 ;

王浙加 ;

戴昕童 ;

李国庆 ;

闻梦瑶 ;

车睿远 .

中国专利 :CN222139260U ,2024-12-10

[5]

一种原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

徐志斌 ;

马骏 ;

祝晓钊 ;

冯敏强 ;

廖良生 .

中国专利 :CN112176321A ,2021-01-05

[6]

一种原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

徐志斌 ;

马骏 ;

祝晓钊 ;

冯敏强 ;

廖良生 .

中国专利 :CN112176321B ,2025-01-14

[7]

一种原子层沉积装置及原子层沉积设备 [P].

李哲峰 ;

乌磊 .

中国专利 :CN212335291U ,2021-01-12

[8]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

刘良文 ;

闫晓晖 ;

拉海忠 .

中国专利 :CN119800330A ,2025-04-11

[9]

原子层沉积方法及原子层沉积装置 [P].

叶长福 ;

魏鼎 ;

吕佐文 .

中国专利 :CN117265508B ,2025-09-26

[10]

原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P].

李名言 ;

吴孝哲 ;

蔡文立 .

中国专利 :CN101333648A ,2008-12-31

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