半导体结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110141088.9
申请日
2021-02-01
公开(公告)号
CN113410178A
公开(公告)日
2021-09-17
发明(设计)人
邱冠璋 李家庆 陈建豪 钟鸿钦 李显铭 徐志安 童宣瑜 吴仲强
申请人
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L27092
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
朱亦林
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
骆志炯 ;
朱慧珑 .
中国专利 :CN102263132A ,2011-11-30
[2]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
B·B·多里斯 ;
V·K·帕鲁许里 ;
B·P·林德尔 ;
V·纳拉亚南 ;
Y-H·金 .
中国专利 :CN100485936C ,2007-07-04
[3]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
裴静伟 ;
陈邦旭 .
中国专利 :CN1949532A ,2007-04-18
[4]
半导体结构、半导体器件及其制造方法 [P]. 
沙哈吉·B·摩尔 ;
李承翰 .
中国专利 :CN115132661A ,2022-09-30
[5]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
萧孟轩 ;
陈维宁 ;
李东颖 .
中国专利 :CN109728093A ,2019-05-07
[6]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
斯蒂文·J.·科斯特 ;
威尔弗雷德·E.-A.·哈恩斯奇 ;
阿姆兰·玛尤姆达 .
中国专利 :CN101252146B ,2008-08-27
[7]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
桂祯涉 ;
金载盛 ;
金兑谦 ;
李建泳 .
中国专利 :CN106504985B ,2017-03-15
[8]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
朱慧珑 ;
托马斯·W·戴尔 .
中国专利 :CN101226941A ,2008-07-23
[9]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
刘智民 ;
郭丰维 ;
张仪贤 ;
锺积贤 ;
王子睿 ;
王铨中 ;
杨敦年 .
中国专利 :CN121194536A ,2025-12-23
[10]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
张哲诚 ;
巫柏奇 ;
林志翰 ;
曾鸿辉 .
中国专利 :CN106952910A ,2017-07-14