深沟槽刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010563591.5

申请日：

2010-11-29

公开(公告)号：

CN102479676A

公开(公告)日：

2012-05-30

发明(设计)人：

姚嫦娲杨华刘鹏陈东强

申请人：

申请人地址：

201206 上海市浦东新区川桥路1188号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

丁纪铁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101293922654 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2010105635915 申请日:20101129
2012-05-30	公开	公开
2014-04-23	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101700355531 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2010105635915 申请公布日:20120530

共 50 条

[1]

深沟槽刻蚀方法 [P].

陈跃华 ;

熊磊 .

中国专利 :CN113506734A ,2021-10-15

[2]

深沟槽刻蚀方法 [P].

周策 ;

谭理 ;

殷敏 ;

王玉新 ;

丁佳 .

中国专利 :CN119108275A ,2024-12-10

[3]

深沟槽的刻蚀方法 [P].

郭海亮 ;

姚道州 ;

赵志 ;

任婷婷 ;

汪健 ;

王玉新 .

中国专利 :CN118248540A ,2024-06-25

[4]

改善深沟槽刻蚀后硅片边缘硅尖刺缺陷的方法 [P].

吴智勇 ;

刘鹏 ;

黄志刚 .

中国专利 :CN102446701A ,2012-05-09

[5]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

李明 ;

刁宇飞 ;

姚雪霞 .

中国专利 :CN111584357B ,2024-03-15

[6]

刻蚀和填充深沟槽的方法 [P].

程晓华 ;

肖胜安 .

中国专利 :CN102280402A ,2011-12-14

[7]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

李明 ;

刁宇飞 ;

姚雪霞 .

中国专利 :CN111584357A ,2020-08-25

[8]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

陈煜 ;

朱焱均 ;

王尧林 ;

燕强 .

中国专利 :CN119993834B ,2025-06-27

[9]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

陈煜 ;

朱焱均 ;

王尧林 ;

燕强 .

中国专利 :CN119993834A ,2025-05-13

[10]

超深沟槽的多级刻蚀与填充方法 [P].

钱文生 ;

王飞 .

中国专利 :CN101752225A ,2010-06-23

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