化学气相沉积装置及其沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510294433.7

申请日：

2015-06-02

公开(公告)号：

CN106282969B

公开(公告)日：

2017-01-04

发明(设计)人：

幸沛锦杜志游

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16455

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

徐雯琼;张静洁

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-15	授权	授权
2017-02-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101700786841 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2015102944337 申请日:20150602
2017-01-04	公开	公开
2019-04-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[2]

化学气相沉积装置 [P].

黄全德 ;

黄文正 .

中国专利 :CN1626698A ,2005-06-15

[3]

化学气相沉积装置及其沉积方法 [P].

张宇顺 .

中国专利 :CN106367735B ,2017-02-01

[4]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[5]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[7]

化学气相沉积装置 [P].

奚明 ;

萨尔瓦多 ;

林芳 ;

黄占超 .

中国专利 :CN103014666A ,2013-04-03

[8]

化学气相沉积装置 [P].

奚明 ;

马悦 ;

萨尔瓦多 ;

林芳 ;

黄占超 .

中国专利 :CN103014667A ,2013-04-03

[9]

化学气相沉积装置 [P].

奚明 ;

马悦 ;

萨尔瓦多 ;

黄占超 .

中国专利 :CN103014668B ,2013-04-03

[10]

化学气相沉积装置 [P].

阿诺德·德雷胡泽 ;

雷米·皮埃尔·罗伯特·布维尔 ;

曼侬·费尔南德斯 .

法国专利 :CN118076765A ,2024-05-24

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