光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310299004.X

申请日：

2013-07-16

公开(公告)号：

CN103676495A

公开(公告)日：

2014-03-26

发明(设计)人：

高野祥司松田文彦成泽嘉彦

申请人：

申请人地址：

日本东京都港区芝大门一丁目12番15号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900 H05K300

代理机构：

上海音科专利商标代理有限公司 31267

代理人：

张成新

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-26	公开	公开
2017-06-23	授权	授权
2015-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616969615 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201310299004X 申请日:20130716

共 50 条

[1]

曝光方法、曝光装置以及光掩模 [P].

畠中公荣 .

中国专利 :CN103513516B ,2014-01-15

[2]

曝光装置和光掩模 [P].

畑中诚 .

中国专利 :CN102597880A ,2012-07-18

[3]

光掩模及曝光装置 [P].

野村义昭 ;

竹下琢郎 ;

桥本和重 .

中国专利 :CN102902155B ,2013-01-30

[4]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[5]

曝光装置及其使用的光掩模 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN102597881B ,2012-07-18

[6]

投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN106483773A ,2017-03-08

[7]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[8]

使用曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13

[9]

投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN105388708B ,2016-03-09

[10]

无掩模曝光装置 [P].

押田良忠 ;

小林和夫 .

中国专利 :CN101398631B ,2009-04-01

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