光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310299004.X

申请日：

2013-07-16

公开(公告)号：

CN103676495A

公开(公告)日：

2014-03-26

发明(设计)人：

高野祥司松田文彦成泽嘉彦

申请人：

申请人地址：

日本东京都港区芝大门一丁目12番15号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900 H05K300

代理机构：

上海音科专利商标代理有限公司 31267

代理人：

张成新

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-26	公开	公开
2017-06-23	授权	授权
2015-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616969615 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201310299004X 申请日:20130716

共 50 条

[41]

圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法 [P].

伍强 ;

刘畅 ;

郝静安 .

中国专利 :CN104035286A ,2014-09-10

[42]

圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法 [P].

伍强 ;

顾一鸣 .

中国专利 :CN104035284A ,2014-09-10

[43]

曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板 [P].

川岛洋德 ;

桥永宙 ;

富樫工 ;

松坂昌明 .

中国专利 :CN102449552A ,2012-05-09

[44]

一种拼接式掩模版、曝光装置及曝光方法 [P].

杨向超 ;

张家锦 .

中国专利 :CN110750031A ,2020-02-04

[45]

曝光掩模的制造方法及其应用 [P].

伊藤正光 .

中国专利 :CN1389902A ,2003-01-08

[46]

曝光装置、光掩模及微元件的制造方法及投影光学装置 [P].

加藤正纪 .

中国专利 :CN103019040A ,2013-04-03

[47]

一种掩模板曝光装置 [P].

佘晓劲 ;

吴东 .

中国专利 :CN215867499U ,2022-02-18

[48]

光罩组件以及曝光装置 [P].

蔡财福 .

中国专利 :CN206725960U ,2017-12-08

[49]

光掩模、光掩模的制造方法以及电子设备的制造方法 [P].

小林周平 .

中国专利 :CN111077725A ,2020-04-28

[50]

光罩保持装置、曝光装置、光罩保持方法、曝光方法 [P].

八田澄夫 ;

白泽正裕 ;

木南贵之 ;

五十岚淑人 .

日本专利 :CN112859396B ,2024-01-05

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