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光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201310299004.X
申请日：
2013-07-16
公开(公告)号：
CN103676495A
公开(公告)日：
2014-03-26
发明(设计)人：
高野祥司
松田文彦
成泽嘉彦
申请人：
申请人地址：
日本东京都港区芝大门一丁目12番15号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G03F900
H05K300
代理机构：
上海音科专利商标代理有限公司 31267
代理人：
张成新
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-03-26 | 公开 | 公开 |
| 2017-06-23 | 授权 | 授权 |
| 2015-07-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616969615 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201310299004X 申请日:20130716 |