空间环境地面模拟等离子体产生装置及采用该装置实现的等离子体产生方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610293033.9
申请日
2016-05-05
公开(公告)号
CN105836165A
公开(公告)日
2016-08-10
发明(设计)人
肖青梅 王志斌 鄂鹏 聂秋月
申请人
申请人地址
150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
IPC主分类号
B64G700
IPC分类号
H05H146
代理机构
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109
代理人
岳泉清
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P]. 
熊谷裕典 ;
今井伸一 .
中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04
[2]
等离子体产生装置以及等离子体产生方法 [P]. 
岩田卓也 ;
池户俊之 .
日本专利 :CN117596763A ,2024-02-23
[3]
等离子体头及等离子体产生装置 [P]. 
佐野裕贵 ;
池户俊之 ;
岩田卓也 .
日本专利 :CN119054416A ,2024-11-29
[4]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
中国专利 :CN114586473A ,2022-06-03
[5]
等离子体产生装置及等离子体处理方法 [P]. 
岩田卓也 .
日本专利 :CN114586473B ,2025-02-18
[6]
等离子体产生装置及等离子体照射方法 [P]. 
神藤高广 ;
池户俊之 .
中国专利 :CN109565921A ,2019-04-02
[7]
等离子体发生装置及等离子体产生方法 [P]. 
岩田卓也 ;
土田纮佑 .
日本专利 :CN117677019A ,2024-03-08
[8]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
南光正平 .
日本专利 :CN119817178A ,2025-04-11
[9]
等离子体产生装置及等离子体处理装置 [P]. 
江部明宪 ;
安东靖典 ;
渡边正则 .
中国专利 :CN102027811A ,2011-04-20
[10]
等离子体产生装置 [P]. 
权基中 ;
李尚元 ;
伍赛宪 ;
金宰贤 ;
洪宝翰 ;
李英关 .
中国专利 :CN1822745A ,2006-08-23