用于传输薄膜基板的真空处理系统、设备和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180103781.5

申请日：

2021-10-26

公开(公告)号：

CN118176319A

公开(公告)日：

2024-06-11

发明(设计)人：

弗兰克·施纳朋伯杰

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C14/56

IPC分类号：

C23C16/54 H01J37/32

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;吴启超

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/56申请日:20211026
2024-06-11	公开	公开

共 50 条

[1]

用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统 [P].

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ;

马蒂亚斯·赫曼尼斯 ;

托马索·维尔切斯 ;

斯蒂芬·班格特 .

中国专利 :CN110494587A ,2019-11-22

[2]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

[3]

真空处理系统和用于真空处理一个或多个基板的方法 [P].

史蒂文·波普 ;

拉尔夫·林登伯格 .

中国专利 :CN109819663A ,2019-05-28

[4]

真空处理装置、真空处理系统和处理方法 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN101752173A ,2010-06-23

[5]

用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备和基板处理系统 [P].

西蒙·刘 ;

莱内尔·欣特舒斯特 ;

安科·赫尔密西 .

中国专利 :CN111373503A ,2020-07-03

[6]

用于真空处理系统的负载锁定腔室和真空处理系统 [P].

F·皮耶拉利西 ;

T·格贝勒 .

中国专利 :CN106232863A ,2016-12-14

[7]

真空处理系统以及操作真空处理系统的方法 [P].

斯蒂芬·班格特 ;

沃尔夫冈·布什贝克 ;

托马斯·伯杰 .

中国专利 :CN110651361A ,2020-01-03

[8]

真空处理系统及操作真空处理系统的方法 [P].

塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ;

于尔根·亨里奇 ;

安德烈亚斯·索尔 .

中国专利 :CN110612362A ,2019-12-24

[9]

基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法 [P].

哈利埃卢拉·谢里夫 ;

布里希·拉贾 .

中国专利 :CN113287194A ,2021-08-20

[10]

基板处理系统、用于真空处理系统的基板腔室以及冷却基板的方法 [P].

哈利埃卢拉·谢里夫 ;

布里希·拉贾 .

美国专利 :CN113287194B ,2024-12-24

← 1 2 3 4 5 →