基板处理装置及包括其的基板处理系统及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310013438.2

申请日：

2023-01-05

公开(公告)号：

CN117761976A

公开(公告)日：

2024-03-26

发明(设计)人：

崔东旻都垈用朴奇洪

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

G03F7/30

IPC分类号：

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-26	公开	公开
2024-04-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/30申请日:20230105

共 50 条

[1]

基板支撑装置、包括其的基板处理系统及基板处理方法 [P].

金载烈 ;

徐钟锡 ;

金性洙 .

中国专利 :CN108022868B ,2018-05-11

[2]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

宫胜彦 .

中国专利 :CN107230652A ,2017-10-03

[3]

基板处理装置、基板处理系统、及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

盐川阳一 .

中国专利 :CN107851570A ,2018-03-27

[4]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

岩田敬次 ;

森田明 ;

高桥朋宏 ;

枝光建治 ;

杉冈真治 .

日本专利 :CN112017997B ,2024-03-22

[5]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统 [P].

川端淳史 ;

宫川正章 ;

齐翀 .

日本专利 :CN120359596A ,2025-07-22

[6]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

岩田敬次 ;

森田明 ;

高桥朋宏 ;

枝光建治 ;

杉冈真治 .

中国专利 :CN112017997A ,2020-12-01

[7]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

渡边和英 ;

盐川阳一 ;

丸山彻 ;

高桥信行 .

中国专利 :CN106256016A ,2016-12-21

[8]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统 [P].

渡边敏史 ;

山本晓 ;

町田优 .

中国专利 :CN108705383A ,2018-10-26

[9]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理系统 [P].

根本脩平 .

日本专利 :CN119816925A ,2025-04-11

[10]

基板检查装置及包括其的基板处理系统 [P].

韩定勳 ;

权五烈 ;

林俊铉 ;

朴东珉 .

韩国专利 :CN117954351A ,2024-04-30

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