学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
スパッタリングターゲット、および、Ag膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210177704
申请日
:
2021-10-29
公开(公告)号
:
JP2022124997A
公开(公告)日
:
2022-08-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
Fe−Al系合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013046780A1
,2015-03-26
[22]
Fe−Pt−C系スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013046882A1
,2015-03-26
[23]
ルテニウムスパッタリングターゲット及びルテニウム合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014021139A1
,2016-07-21
[24]
ITOスパッタリングターゲット材およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015125588A1
,2017-03-30
[25]
ITOスパッタリングターゲット材およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5816394B1
,2015-11-18
[26]
Mo系スパッタリングターゲット板,および,その製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008084863A1
,2010-05-06
[27]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017502166A
,2017-01-19
[28]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018173517A1
,2020-01-23
[29]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017213185A1
,2019-04-04
[30]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013145818A1
,2015-12-10
←
1
2
3
4
5
→