スパッタリングターゲット、および、Ag膜[ja]

被引:0
申请号
JP20210177704
申请日
2021-10-29
公开(公告)号
JP2022124997A
公开(公告)日
2022-08-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[21]
Fe−Al系合金スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013046780A1 ,2015-03-26
[22]
Fe−Pt−C系スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013046882A1 ,2015-03-26
[24]
[27]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017502166A ,2017-01-19
[28]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018173517A1 ,2020-01-23
[29]
スパッタリングターゲット及び、その製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017213185A1 ,2019-04-04
[30]
スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013145818A1 ,2015-12-10