スパッタリングターゲット、および、Ag膜[ja]

被引:0
申请号
JP20210177704
申请日
2021-10-29
公开(公告)号
JP2022124997A
公开(公告)日
2022-08-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[11]
ITOスパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016174877A1 ,2018-02-22
[12]
スパッタリングターゲットおよびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015068535A1 ,2017-03-09
[13]
[14]
[15]
貴金属スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JP6810824B1 ,2021-01-06
[16]
金属系スパッタリングターゲット材[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009107763A1 ,2011-07-07
[17]
タングステン焼結体スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009147900A1 ,2011-10-27
[19]
ニッケル合金スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP6791313B1 ,2020-11-25
[20]
銅−ガリウムスパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017500438A ,2017-01-05