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窒化ケイ素スパッタリングターゲット、窒化ケイ素スパッタリングターゲットの製造方法、および、窒化ケイ素膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210094076
申请日
:
2021-06-04
公开(公告)号
:
JP2022186052A
公开(公告)日
:
2022-12-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C04B35/597
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022125041A
,2022-08-26
[2]
スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019176962A1
,2021-02-12
[3]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[4]
スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、および、光学機能膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2022143917A
,2022-10-03
[5]
ニッケル合金スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6791313B1
,2020-11-25
[6]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP5808513B1
,2015-11-10
[7]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP7205999B1
,2023-01-17
[8]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015170534A1
,2017-04-20
[9]
スパッタリングターゲット、および、Ag膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2022124997A
,2022-08-26
[10]
スパッタリングターゲット用酸化クロム粉末及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006134694A1
,2009-01-08
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