一种LDMOS器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410600503.6
申请日
2024-05-15
公开(公告)号
CN118588562A
公开(公告)日
2024-09-03
发明(设计)人
张博 令海阳
申请人
上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请人地址
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区祖冲之路1399号
IPC主分类号
H01L21/336
IPC分类号
H01L29/78 H01L29/06 H01L29/40 H01L29/41
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
王关根
法律状态
公开
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
高压LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
张帅 ;
刘坤 .
中国专利 :CN102543738A ,2012-07-04
[2]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 ;
吕赵鸿 .
中国专利 :CN102044563A ,2011-05-04
[3]
开关LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 .
中国专利 :CN111554579A ,2020-08-18
[4]
一种射频LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
遇寒 ;
李昊 ;
周正良 .
中国专利 :CN104576731B ,2015-04-29
[5]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
石晶 .
中国专利 :CN106298935A ,2017-01-04
[6]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN111540785A ,2020-08-14
[7]
一种n型LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
李喆 ;
王黎 ;
陈瑜 ;
陈华伦 .
中国专利 :CN104681609A ,2015-06-03
[8]
射频LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
遇寒 ;
周正良 .
中国专利 :CN105047716B ,2015-11-11
[9]
射频LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
遇寒 ;
李昊 ;
周正良 .
中国专利 :CN104425597B ,2015-03-18
[10]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN109244140A ,2019-01-18