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一种LDMOS器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410600503.6
申请日
:
2024-05-15
公开(公告)号
:
CN118588562A
公开(公告)日
:
2024-09-03
发明(设计)人
:
张博
令海阳
申请人
:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区祖冲之路1399号
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
H01L29/78
H01L29/06
H01L29/40
H01L29/41
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
王关根
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-09-03
公开
公开
2024-09-20
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/336申请日:20240515
共 50 条
[1]
高压LDMOS器件及其制造方法
[P].
张帅
论文数:
0
引用数:
0
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0
张帅
;
刘坤
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘坤
.
中国专利
:CN102543738A
,2012-07-04
[2]
LDMOS器件及其制造方法
[P].
钱文生
论文数:
0
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0
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0
钱文生
;
吕赵鸿
论文数:
0
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0
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0
吕赵鸿
.
中国专利
:CN102044563A
,2011-05-04
[3]
开关LDMOS器件及其制造方法
[P].
钱文生
论文数:
0
引用数:
0
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0
钱文生
.
中国专利
:CN111554579A
,2020-08-18
[4]
一种射频LDMOS器件及其制造方法
[P].
遇寒
论文数:
0
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0
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0
遇寒
;
李昊
论文数:
0
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0
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0
李昊
;
周正良
论文数:
0
引用数:
0
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0
周正良
.
中国专利
:CN104576731B
,2015-04-29
[5]
LDMOS器件及其制造方法
[P].
石晶
论文数:
0
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0
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0
石晶
.
中国专利
:CN106298935A
,2017-01-04
[6]
LDMOS器件及其制造方法
[P].
许昭昭
论文数:
0
引用数:
0
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0
许昭昭
.
中国专利
:CN111540785A
,2020-08-14
[7]
一种n型LDMOS器件及其制造方法
[P].
李喆
论文数:
0
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0
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李喆
;
王黎
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0
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王黎
;
陈瑜
论文数:
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0
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陈瑜
;
陈华伦
论文数:
0
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0
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陈华伦
.
中国专利
:CN104681609A
,2015-06-03
[8]
射频LDMOS器件及其制造方法
[P].
遇寒
论文数:
0
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0
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0
遇寒
;
周正良
论文数:
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0
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0
周正良
.
中国专利
:CN105047716B
,2015-11-11
[9]
射频LDMOS器件及其制造方法
[P].
遇寒
论文数:
0
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0
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0
遇寒
;
李昊
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0
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李昊
;
周正良
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0
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0
周正良
.
中国专利
:CN104425597B
,2015-03-18
[10]
LDMOS器件及其制造方法
[P].
许昭昭
论文数:
0
引用数:
0
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0
许昭昭
.
中国专利
:CN109244140A
,2019-01-18
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