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エッチング残留物の少ない金属酸化物のエッチング方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200531606
申请日
:
2018-12-13
公开(公告)号
:
JP7366019B2
公开(公告)日
:
2023-10-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
積層体のエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023101962A
,2023-07-24
[42]
エッチング方法、エッチング残渣の除去方法、および記憶媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066172A1
,2021-08-30
[43]
酸化銅用エッチング液及びそれを用いたエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011105129A1
,2013-06-20
[44]
チタン層またはチタン含有層のエッチング液組成物およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018181896A1
,2020-02-27
[45]
ラジカル構成要素の酸化物エッチング[ja]
[P].
日本专利
:JP6218836B2
,2017-10-25
[46]
エッチング液及びそれを用いたエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013002283A1
,2015-02-23
[47]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040484A1
,2013-02-28
[48]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[49]
基板エッチング液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007138921A1
,2009-10-01
[50]
エッチング後残留物を除去するための洗浄組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020513440A
,2020-05-14
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