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エッチング残留物の少ない金属酸化物のエッチング方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200531606
申请日
:
2018-12-13
公开(公告)号
:
JP7366019B2
公开(公告)日
:
2023-10-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エッチング残留物の少ない金属酸化物のエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021507509A
,2021-02-22
[2]
エッチング残留物の少ない金属酸化物のエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7591111B2
,2024-11-27
[3]
金属酸化物のエッチング方法[ja]
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
TAKEDA KEIGO
;
HIRAMATSU MINEO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV MEIJO
UNIV MEIJO
HIRAMATSU MINEO
.
日本专利
:JP2025022336A
,2025-02-14
[4]
酸化物層のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6742720B2
,2020-08-19
[5]
金属酸化物の原子層エッチング[ja]
[P].
日本专利
:JP2024509558A
,2024-03-04
[6]
金属酸化物の原子層エッチング[ja]
[P].
日本专利
:JP7330954B2
,2023-08-22
[7]
金属酸化物の原子層エッチング[ja]
[P].
日本专利
:JP2020535657A
,2020-12-03
[8]
酸化物の原子層エッチングの方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7175237B2
,2022-11-18
[9]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020054476A1
,2020-10-22
[10]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7545088B2
,2024-09-04
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