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沟槽功率半导体器件及制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011171440.5
申请日
:
2020-10-28
公开(公告)号
:
CN112216743B
公开(公告)日
:
2024-11-29
发明(设计)人
:
朱袁正
周锦程
申请人
:
无锡新洁能股份有限公司
申请人地址
:
214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号(与华清路交叉口)无锡(滨湖)国家信息传感中心-B1楼东侧2楼
IPC主分类号
:
H01L29/78
IPC分类号
:
H01L29/06
H01L21/336
代理机构
:
无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104
代理人
:
曹祖良;涂三民
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 无锡市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-29
授权
授权
共 50 条
[31]
功率半导体器件及制造工艺
[P].
赖海波
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赖海波
.
中国专利
:CN104241383B
,2014-12-24
[32]
沟槽栅半导体器件的制造方法
[P].
汪莹萍
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汪莹萍
;
缪进征
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缪进征
.
中国专利
:CN104465349B
,2015-03-25
[33]
功率半导体器件及制造该功率半导体器件的方法
[P].
黄瑄珪
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黄瑄珪
;
金钟燮
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金钟燮
.
中国专利
:CN115148793A
,2022-10-04
[34]
功率半导体器件及用于制造功率半导体器件的方法
[P].
李光远
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李光远
;
徐永浩
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徐永浩
;
马丁·多梅杰
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马丁·多梅杰
;
朴金硕
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朴金硕
.
中国专利
:CN112397590A
,2021-02-23
[35]
一种沟槽型半导体功率器件及其制造方法和终端保护结构
[P].
丁磊
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丁磊
;
侯宏伟
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侯宏伟
.
中国专利
:CN102832234B
,2012-12-19
[36]
功率半导体器件及制造方法
[P].
G·古普塔
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机构:
日立能源有限公司
日立能源有限公司
G·古普塔
;
L·德-米奇伊里斯
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日立能源有限公司
日立能源有限公司
L·德-米奇伊里斯
;
W·A·维塔勒
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机构:
日立能源有限公司
日立能源有限公司
W·A·维塔勒
.
:CN117652033A
,2024-03-05
[37]
功率半导体器件及制造方法
[P].
阿肖克·沙拉
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阿肖克·沙拉
;
艾伦·埃尔班霍威
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艾伦·埃尔班霍威
;
克里斯托弗·B·科康
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克里斯托弗·B·科康
;
史蒂文·P·萨普
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史蒂文·P·萨普
;
彼得·H·威尔逊
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彼得·H·威尔逊
;
巴巴克·S·萨尼
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巴巴克·S·萨尼
.
中国专利
:CN101180737B
,2008-05-14
[38]
功率半导体器件及制造方法
[P].
阿肖克·沙拉
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阿肖克·沙拉
;
艾伦·埃尔班霍威
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艾伦·埃尔班霍威
;
克里斯托弗·B·科康
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克里斯托弗·B·科康
;
史蒂文·P·萨普
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史蒂文·P·萨普
;
彼得·H·威尔逊
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彼得·H·威尔逊
;
巴巴克·S·萨尼
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巴巴克·S·萨尼
.
中国专利
:CN101794817A
,2010-08-04
[39]
一种沟槽栅超结功率半导体器件
[P].
朱袁正
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朱袁正
;
叶鹏
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叶鹏
;
周锦程
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周锦程
;
杨卓
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杨卓
.
中国专利
:CN216597595U
,2022-05-24
[40]
功率半导体器件及制备方法
[P].
李寿全
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机构:
北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
李寿全
;
刘志国
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北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
刘志国
;
张彦飞
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北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
张彦飞
;
赵哿
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北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
赵哿
;
温霄霞
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北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
温霄霞
;
刘梦新
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机构:
北京中科新微特科技开发股份有限公司
北京中科新微特科技开发股份有限公司
刘梦新
.
中国专利
:CN119451198A
,2025-02-14
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