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一种减少研磨液粒子聚集的控制装置及研磨液供应系统
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202421064164.6
申请日
:
2024-05-15
公开(公告)号
:
CN222472065U
公开(公告)日
:
2025-02-14
发明(设计)人
:
戴翔
陈鸿泽
雷炀烊
杨忠宇
申请人
:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请人地址
:
201807 上海市嘉定区娄陆公路497号
IPC主分类号
:
B24B37/34
IPC分类号
:
B24B37/005
B24B57/02
B24B49/12
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
张磊
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-14
授权
授权
共 50 条
[1]
研磨液过滤系统、研磨液供应系统及化学机械研磨设备
[P].
田得暄
论文数:
0
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田得暄
;
辛君
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辛君
;
吴龙江
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吴龙江
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN208913880U
,2019-05-31
[2]
一种研磨液供应装置及研磨系统
[P].
戴翔
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
戴翔
;
陈鸿泽
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陈鸿泽
.
中国专利
:CN220498818U
,2024-02-20
[3]
研磨液供应系统及研磨设备
[P].
廖帆伟
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
廖帆伟
;
徐伟伦
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
徐伟伦
.
中国专利
:CN223492977U
,2025-10-31
[4]
一种研磨液存储装置及研磨液供应系统
[P].
陈威
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陈威
;
王怀峰
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王怀峰
;
余文军
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余文军
;
曹开玮
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曹开玮
.
中国专利
:CN201677237U
,2010-12-22
[5]
研磨液供应系统和研磨装置
[P].
王建雄
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王建雄
;
唐强
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唐强
.
中国专利
:CN203993559U
,2014-12-10
[6]
研磨液供应系统
[P].
许文泉
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许文泉
.
中国专利
:CN102806526A
,2012-12-05
[7]
一种新型研磨液供应系统
[P].
张久华
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张久华
.
中国专利
:CN212918939U
,2021-04-09
[8]
研磨液供应系统、研磨液测试装置及研磨液测试方法
[P].
沙酉鹤
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沙酉鹤
.
中国专利
:CN112405355B
,2021-02-26
[9]
研磨液混合与供应系统
[P].
郑火龙
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郑火龙
.
中国专利
:CN217530497U
,2022-10-04
[10]
简易式研磨液供应系统
[P].
王怀锋
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王怀锋
;
詹明松
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詹明松
;
余文军
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余文军
;
曹开玮
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曹开玮
.
中国专利
:CN201455812U
,2010-05-12
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