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一种用于薄膜集成电路的生成制造工艺
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410659363.X
申请日：
2024-05-27
公开(公告)号：
CN118507428B
公开(公告)日：
2025-03-07
发明(设计)人：
王慧卉
黄豹
樊志
申请人：
株洲宏达电子股份有限公司
申请人地址：
412000 湖南省株洲市荷塘区新华东路1297号
IPC主分类号：
H01L21/77
IPC分类号：
H01L21/70
代理机构：
湖南省娄底市兴娄专利事务所(普通合伙) 43106
代理人：
王心中
法律状态：
授权
国省代码：
湖南省
株洲市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-03-07 | 授权 | 授权 |
| 2024-08-16 | 公开 | 公开 |
| 2024-09-03 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/77申请日:20240527 |