一种湿法蚀刻晶圆清洗装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202421608299.4
申请日
2024-07-09
公开(公告)号
CN222953035U
公开(公告)日
2025-06-06
发明(设计)人
王静强 胡兴华 徐福兴
申请人
昆山基侑电子科技有限公司
申请人地址
215314 江苏省苏州市昆山市周市镇黄浦江北路333号A-1厂房
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
代理机构
苏州中知捷兴知识产权代理事务所(普通合伙) 32709
代理人
李靖
法律状态
授权
国省代码
江苏省 苏州市
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共 50 条
[21]
一种晶圆清洗装置及晶圆处理系统 [P]. 
倪洽凯 ;
柳坤 ;
王嘉炜 .
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[22]
一种用于湿法晶圆的清洗装置 [P]. 
贺贤汉 ;
杉原一男 ;
佐藤泰幸 ;
原英樹 .
中国专利 :CN217788339U ,2022-11-11
[23]
晶圆背面清洗装置 [P]. 
孔德平 ;
胡华勇 .
中国专利 :CN203721680U ,2014-07-16
[24]
晶圆清洗方法及晶圆清洗装置 [P]. 
刘佳奇 ;
姚零一 .
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[25]
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马玲 ;
韦亚一 ;
徐步青 ;
董立松 .
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[26]
晶圆清洗方法及晶圆清洗装置 [P]. 
李广宁 ;
沈哲敏 .
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[27]
一种晶圆清洗装置 [P]. 
唐强 ;
汤露奇 .
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[28]
一种晶圆清洗装置 [P]. 
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尚宏博 .
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[29]
一种晶圆清洗装置 [P]. 
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李佩 ;
马智勇 .
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[30]
一种晶圆清洗装置 [P]. 
胡建军 .
中国专利 :CN216631792U ,2022-05-31