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一种金属掩膜版的点焊对位机构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202421664963.7
申请日：
2024-07-15
公开(公告)号：
CN223043815U
公开(公告)日：
2025-07-01
发明(设计)人：
陈嘉伟
林柏勋
申请人：
黄石全洋光电科技有限公司
申请人地址：
435000 湖北省黄石市开发区·铁山区金山大道189号B栋研发楼402室
IPC主分类号：
B23K20/26
IPC分类号：
B23K20/10
代理机构：
北京众允专利代理有限公司 11803
代理人：
郑昆山
法律状态：
授权
国省代码：
湖北省
武汉市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-07-01 | 授权 | 授权 |