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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510069282.9
申请日
:
2025-01-16
公开(公告)号
:
CN120835611A
公开(公告)日
:
2025-10-24
发明(设计)人
:
宋熙赞
金泽中
李东洙
申请人
:
三星电子株式会社
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H10D84/85
IPC分类号
:
H10D84/03
H10D64/66
H10D64/68
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
弋桂芬
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-24
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
金柱然
论文数:
0
引用数:
0
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0
金柱然
;
前田茂伸
论文数:
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前田茂伸
;
金峰奭
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金峰奭
.
中国专利
:CN103681672A
,2014-03-26
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
金承范
论文数:
0
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0
金承范
.
中国专利
:CN102034755A
,2011-04-27
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
李炳训
论文数:
0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李炳训
;
朴钟昊
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴钟昊
;
金完敦
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金完敦
;
玄尚镇
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
玄尚镇
.
韩国专利
:CN111668308B
,2025-06-10
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
吉村铁夫
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吉村铁夫
;
渡边健一
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渡边健一
;
大塚敏志
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大塚敏志
.
中国专利
:CN101636834B
,2010-01-27
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
李炳训
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李炳训
;
朴钟昊
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朴钟昊
;
金完敦
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金完敦
;
玄尚镇
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玄尚镇
.
中国专利
:CN111668308A
,2020-09-15
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
韩秋华
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韩秋华
;
王新鹏
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王新鹏
;
黄怡
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黄怡
.
中国专利
:CN102938378A
,2013-02-20
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
权世仁
论文数:
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权世仁
.
中国专利
:CN102339830A
,2012-02-01
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
望月博
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望月博
;
奥和田久美
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奥和田久美
;
金谷宏行
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金谷宏行
;
日高修
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日高修
.
中国专利
:CN100367407C
,1998-08-12
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
金范庸
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金范庸
;
吉德信
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吉德信
;
全喜营
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全喜营
.
中国专利
:CN109841498A
,2019-06-04
[10]
半导体器件及其制造方法、电子设备
[P].
金美晨
论文数:
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机构:
北京超弦存储器研究院
北京超弦存储器研究院
金美晨
;
李相惇
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机构:
北京超弦存储器研究院
北京超弦存储器研究院
李相惇
;
康卜文
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机构:
北京超弦存储器研究院
北京超弦存储器研究院
康卜文
.
中国专利
:CN120878631A
,2025-10-31
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