化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411598856.3

申请日：

2024-11-11

公开(公告)号：

CN119776795B

公开(公告)日：

2025-11-25

发明(设计)人：

杨峰刘羊曹林王和风杨雁培陈杨冯锡文符小弟尹士平

申请人：

安徽光智科技有限公司

申请人地址：

239004 安徽省滁州市琅琊经济开发区南京路100号

IPC主分类号：

C23C16/02

IPC分类号：

C23C16/30

代理机构：

北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387

代理人：

张向琨

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省安庆市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-25	授权	授权
2025-04-08	公开	公开
2025-04-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/02申请日:20241111

共 50 条

[1]

化学气相沉积衬底的制备方法以及化学气相沉积方法 [P].

杨峰 ;

刘羊 ;

曹林 ;

王和风 ;

杨雁培 ;

陈杨 ;

冯锡文 ;

符小弟 ;

尹士平 .

中国专利 :CN119776795A ,2025-04-08

[2]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[3]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[4]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[5]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[7]

化学气相沉积方法 [P].

孙旭海 ;

刘满成 .

中国专利 :CN121204634A ,2025-12-26

[8]

化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN119082695A ,2024-12-06

[9]

化学气相沉积方法 [P].

张盈盈 .

中国专利 :CN119372622A ,2025-01-28

[10]

化学气相沉积方法 [P].

G·本韦努蒂 ;

E·瓦格纳 ;

C·桑杜 .

中国专利 :CN106460167B ,2017-02-22

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