GAS-PHASE COMPOSITION CONSIDERATIONS IN THERMAL-OXIDATION OF SILICON IN CL-H-O AMBIENTS

被引:19
作者
TRESSLER, RE
STACH, J
METZ, DM
机构
[1] PENN STATE UNIV,DEPT MAT SCI,UNIVERSITY PK,PA 16802
[2] PENN STATE UNIV,DEPT ELECT ENGN,UNIVERSITY PK,PA 16802
关键词
D O I
10.1149/1.2133358
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:607 / 609
页数:3
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