PROXIMITY EFFECT CORRECTION FOR HIGH-VOLTAGE ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引:15
作者
ABE, T
TAKIGAWA, T
机构
关键词
D O I
10.1063/1.343283
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:4428 / 4434
页数:7
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