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互连结构及其形成方法
被引:0
申请号
:
CN202210098928.2
申请日
:
2022-01-25
公开(公告)号
:
CN115346916A
公开(公告)日
:
2022-11-15
发明(设计)人
:
赖昱泽
张雅惠
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L21768
IPC分类号
:
H01L23538
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20220125
2022-11-15
公开
公开
共 50 条
[1]
互连结构及其形成方法
[P].
杜·B·古延
论文数:
0
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0
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杜·B·古延
;
哈扎拉·S·拉索尔
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哈扎拉·S·拉索尔
;
比伦德拉·N·阿加瓦拉
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比伦德拉·N·阿加瓦拉
.
中国专利
:CN1967804A
,2007-05-23
[2]
互连结构的形成方法
[P].
杨勇
论文数:
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杨勇
;
黄冲
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黄冲
;
万浩浩
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0
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万浩浩
;
欧少敏
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0
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欧少敏
.
中国专利
:CN104157606A
,2014-11-19
[3]
互连结构、半导体结构及其形成方法
[P].
邱德馨
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
邱德馨
;
赖韦安
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
赖韦安
;
沈孟弘
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沈孟弘
;
林威呈
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林威呈
;
曾健庭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
曾健庭
;
萧锦涛
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
萧锦涛
.
中国专利
:CN113809046B
,2025-02-28
[4]
互连结构、半导体结构及其形成方法
[P].
邱德馨
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邱德馨
;
赖韦安
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赖韦安
;
沈孟弘
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沈孟弘
;
林威呈
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林威呈
;
曾健庭
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0
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0
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曾健庭
;
萧锦涛
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萧锦涛
.
中国专利
:CN113809046A
,2021-12-17
[5]
一种互连结构及其形成方法
[P].
金吉松
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0
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金吉松
.
中国专利
:CN111584421A
,2020-08-25
[6]
用于形成互连结构的方法
[P].
李伟健
论文数:
0
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0
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
李伟健
;
陶铮
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机构:
IMEC非营利协会
IMEC非营利协会
陶铮
.
:CN117476545A
,2024-01-30
[7]
用于CIS倒装芯片接合的互连结构及其形成方法
[P].
余振华
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余振华
;
陈永庆
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陈永庆
;
李建勋
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李建勋
;
李明机
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0
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李明机
.
中国专利
:CN103545323A
,2014-01-29
[8]
用于CIS倒装芯片接合的互连结构及其形成方法
[P].
余振华
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余振华
;
陈永庆
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陈永庆
;
李建勋
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李建勋
;
李明机
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李明机
.
中国专利
:CN108630716B
,2018-10-09
[9]
互连结构及其制造方法
[P].
张海洋
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张海洋
;
符雅丽
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0
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符雅丽
.
中国专利
:CN103456679B
,2013-12-18
[10]
包含通孔互连结构的集成电路结构及其形成方法
[P].
张宏光
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张宏光
;
卡尔·J·拉登斯
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卡尔·J·拉登斯
;
L·A·克莱文杰
论文数:
0
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0
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L·A·克莱文杰
.
中国专利
:CN108573955B
,2018-09-25
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