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用于形成自对准触点和局部互连的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201280055885.4
申请日
:
2012-11-01
公开(公告)号
:
CN103946971A
公开(公告)日
:
2014-07-23
发明(设计)人
:
理查德·T·舒尔茨
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L21768
IPC分类号
:
代理机构
:
上海胜康律师事务所 31263
代理人
:
李献忠
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-07-23
公开
公开
2015-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594325115 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2012800558854 申请日:20121101
2016-11-09
授权
授权
共 50 条
[1]
自对准局部互连工艺中对于栅极的选择性局部互连
[P].
理查德·T·舒尔茨
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理查德·T·舒尔茨
.
中国专利
:CN102460671A
,2012-05-16
[2]
自对准局部互连
[P].
A·D·利拉克
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A·D·利拉克
;
E·曼内巴赫
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E·曼内巴赫
;
A·潘
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A·潘
;
R·申克尔
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R·申克尔
;
S·A·博亚尔斯基
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S·A·博亚尔斯基
;
W·拉赫马迪
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W·拉赫马迪
;
P·莫罗
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P·莫罗
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J·比勒费尔德
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J·比勒费尔德
;
G·杜威
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G·杜威
;
H·载允
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H·载允
;
N·卡比尔
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N·卡比尔
.
中国专利
:CN111564428A
,2020-08-21
[3]
形成自对准局部互连的方法和由此形成的结构
[P].
C·W·考伯格三世
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C·W·考伯格三世
;
D·V·霍拉克
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D·V·霍拉克
;
S·波诺斯
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S·波诺斯
;
杨智超
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杨智超
;
范淑贞
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范淑贞
;
S·K·卡纳卡萨巴帕西
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S·K·卡纳卡萨巴帕西
.
中国专利
:CN102456617A
,2012-05-16
[4]
自对准栅极边缘和局部互连件及其制造方法
[P].
M·C·韦布
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M·C·韦布
;
M·博尔
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M·博尔
;
T·加尼
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T·加尼
;
S·S·廖
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S·S·廖
.
中国专利
:CN106415800B
,2017-02-15
[5]
形成自对准触点
[P].
范淑贞
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机构:
国际商业机器公司
国际商业机器公司
范淑贞
;
B·普拉纳萨蒂哈伦
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国际商业机器公司
国际商业机器公司
B·普拉纳萨蒂哈伦
;
A·格林
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国际商业机器公司
国际商业机器公司
A·格林
;
谢瑞龙
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国际商业机器公司
国际商业机器公司
谢瑞龙
;
M·V·雷蒙德
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国际商业机器公司
国际商业机器公司
M·V·雷蒙德
;
S·连
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机构:
国际商业机器公司
国际商业机器公司
S·连
.
美国专利
:CN110892523B
,2024-01-05
[6]
形成自对准触点
[P].
范淑贞
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范淑贞
;
B·普拉纳萨蒂哈伦
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B·普拉纳萨蒂哈伦
;
A·格林
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A·格林
;
谢瑞龙
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谢瑞龙
;
M·V·雷蒙德
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M·V·雷蒙德
;
S·连
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S·连
.
中国专利
:CN110892523A
,2020-03-17
[7]
用于形成自对准互连结构的方法
[P].
刘如淦
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刘如淦
;
张世明
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张世明
;
伍海涛
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伍海涛
.
中国专利
:CN112309963A
,2021-02-02
[8]
用于形成自对准互连结构的方法
[P].
刘如淦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘如淦
;
张世明
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张世明
;
伍海涛
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
伍海涛
.
中国专利
:CN112309963B
,2025-04-22
[9]
用于局部触点接通和局部掺杂半导体层的方法
[P].
R·普罗伊
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R·普罗伊
;
A·格罗厄
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A·格罗厄
;
D·比罗
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D·比罗
;
J·兰特施
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J·兰特施
;
M·霍夫曼
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M·霍夫曼
;
J-F·尼卡达
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J-F·尼卡达
;
A·沃尔夫
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A·沃尔夫
.
中国专利
:CN102197491A
,2011-09-21
[10]
同时制造自对准接触窗和局部内连线的方法
[P].
骆统
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骆统
;
杨令武
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杨令武
;
陈光钊
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陈光钊
.
中国专利
:CN101051623A
,2007-10-10
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