一种刻蚀终点检测系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510688632.6

申请日：

2015-10-21

公开(公告)号：

CN105336638B

公开(公告)日：

2019-03-08

发明(设计)人：

睢智峰

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路498号19楼501室

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王宝筠

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-04	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101731840239 IPC(主分类):H01L 21/66 专利申请号:2015106886326 变更事项:申请人变更前:上海陛通半导体能源科技有限公司变更后:上海陛通半导体能源科技股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路498号19楼501室变更后:201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路498号19楼501室
2019-03-08	授权	授权
2016-03-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101650133869 IPC(主分类):H01L 21/66 专利申请号:2015106886326 申请日:20151021

共 50 条

[1]

刻蚀终点检测方法 [P].

罗永坚 ;

张颂周 ;

任昱 ;

朱骏 ;

吕煜坤 ;

张旭升 .

中国专利 :CN104392946A ,2015-03-04

[2]

刻蚀终点检测系统及方法 [P].

杨剑 ;

杨俊 ;

梁晓明 ;

冯锐 ;

朱普磊 .

中国专利 :CN118352215A ,2024-07-16

[3]

一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法 [P].

方铭国 .

中国专利 :CN121215542A ,2025-12-26

[4]

一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法 [P].

牛夷 ;

姜晶 ;

陈浩林 ;

李璇 ;

李志强 ;

王超 .

中国专利 :CN117451636A ,2024-01-26

[5]

终点检测装置和终点检测系统 [P].

刘昕 ;

董伯辉 ;

孙启磊 ;

王玉 ;

王立 .

中国专利 :CN211238175U ,2020-08-11

[6]

一种等离子刻蚀设备的刻蚀终点检测装置与方法 [P].

杨峰 .

中国专利 :CN100568448C ,2008-07-16

[7]

刻蚀机终点检测系统用光线采集机构 [P].

唐建成 .

中国专利 :CN223513380U ,2025-11-04

[8]

一种便于安装且检测范围广的刻蚀机刻蚀终点检测系统 [P].

李鑫 ;

陈荣华 .

中国专利 :CN215374016U ,2021-12-31

[9]

侧墙刻蚀终点检测优化方法 [P].

刘周 .

中国专利 :CN119089172A ,2024-12-06

[10]

光学终点检测系统 [P].

巴拉苏布拉马尼恩·拉马钱德雷 ;

石井雅人 ;

阿伦·缪尔·亨特 .

中国专利 :CN103493192A ,2014-01-01

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