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一种水性半导体晶圆切割液及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110717731.8
申请日
:
2021-06-28
公开(公告)号
:
CN113430041A
公开(公告)日
:
2021-09-24
发明(设计)人
:
胡丁
包亚群
申请人
:
申请人地址
:
510000 广东省广州市黄埔区开源大道11号C4栋201室
IPC主分类号
:
C10M17302
IPC分类号
:
C10N3004
C10N3006
C10N3012
代理机构
:
广州市百拓共享专利代理事务所(特殊普通合伙) 44497
代理人
:
卢刚
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-24
公开
公开
2021-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C10M 173/02 申请日:20210628
共 50 条
[41]
一种半导体晶圆切割装置
[P].
殷泽安
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
殷泽安
.
中国专利
:CN218170966U
,2022-12-30
[42]
一种半导体晶圆切割装置
[P].
刘亮
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海博纳微电子设备有限公司
上海博纳微电子设备有限公司
刘亮
;
任凯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海博纳微电子设备有限公司
上海博纳微电子设备有限公司
任凯
;
许为民
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海博纳微电子设备有限公司
上海博纳微电子设备有限公司
许为民
.
中国专利
:CN222406556U
,2025-01-28
[43]
一种半导体晶圆清洗装置
[P].
刘金章
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘金章
;
杨欣泽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨欣泽
.
中国专利
:CN208538807U
,2019-02-22
[44]
一种半导体晶圆金属电极保护液、其制备方法与用途
[P].
侯军
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
侯军
;
任浩楠
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
任浩楠
;
吕晶
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
吕晶
;
申海艳
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
申海艳
;
隋新
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
隋新
.
中国专利
:CN116875983B
,2025-08-29
[45]
一种高效稳定晶圆切割清洗液及其制备方法
[P].
朱华超
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱华超
.
中国专利
:CN115418267A
,2022-12-02
[46]
一种半导体晶圆的表面处理方法
[P].
李司元
论文数:
0
引用数:
0
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0
李司元
;
颜维成
论文数:
0
引用数:
0
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0
颜维成
;
江富杰
论文数:
0
引用数:
0
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0
江富杰
.
中国专利
:CN107749392A
,2018-03-02
[47]
一种半导体晶圆的背面研磨方法
[P].
周诗健
论文数:
0
引用数:
0
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0
周诗健
;
王海勇
论文数:
0
引用数:
0
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0
王海勇
.
中国专利
:CN107803744A
,2018-03-16
[48]
半导体精密薄片金刚石砂线切割液及其制备方法
[P].
陆由东
论文数:
0
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0
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0
陆由东
;
郑虎祥
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑虎祥
;
吴伟峰
论文数:
0
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0
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0
吴伟峰
;
蒋勇
论文数:
0
引用数:
0
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0
蒋勇
.
中国专利
:CN102618376B
,2012-08-01
[49]
一种晶圆切割液
[P].
侯军
论文数:
0
引用数:
0
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0
侯军
;
褚雨露
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
褚雨露
.
中国专利
:CN112708500A
,2021-04-27
[50]
一种半导体晶圆切割装置及其工作方法
[P].
郑晓波
论文数:
0
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0
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0
郑晓波
;
方俊
论文数:
0
引用数:
0
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0
方俊
;
梁瑶
论文数:
0
引用数:
0
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0
梁瑶
.
中国专利
:CN109049376A
,2018-12-21
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