一种金属表面残留物的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010619948.7

申请日：

2010-12-30

公开(公告)号：

CN102543674A

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

陈东强彭洪修王胜利刘兵孙广胜

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

C23G124

代理机构：

上海翰鸿律师事务所 31246

代理人：

李佳铭

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101703924995 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2010106199487 申请公布日:20120704
2012-07-04	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械研磨后残留物的去除方法 [P].

黄孝鹏 .

中国专利 :CN101908465A ,2010-12-08

[2]

一种蚀刻残留物去除组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272281A ,2025-07-08

[3]

化学机械研磨的残留物去除方法 [P].

邓武锋 .

中国专利 :CN102157368A ,2011-08-17

[4]

去除刻蚀残留物的方法 [P].

王灵玲 ;

宋铭峰 ;

郭佳衢 ;

李建茹 ;

方标 ;

刘轩 ;

王秀 ;

郑莲晃 ;

王润顺 .

中国专利 :CN101063821A ,2007-10-31

[5]

一种去除蚀刻残留物的组合物 [P].

蔡贝克 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

李志豪 ;

温启蒙 .

中国专利 :CN120230612A ,2025-07-01

[6]

残留物的去除方法 [P].

李强 ;

丁士成 .

中国专利 :CN101567300B ,2009-10-28

[7]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

中国专利 :CN112136204A ,2020-12-25

[8]

残留物去除 [P].

金正男 ;

刘彪 ;

潘成 ;

埃莉卡·陈 ;

殷正操 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·叶 .

美国专利 :CN112136204B ,2024-10-11

[9]

一种去除蚀刻残留物的化学组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272922A ,2025-07-08

[10]

一种从基材表面去除残留物的方法 [P].

E·阿尔塔米拉诺桑切斯 ;

Q·T·乐 .

:CN120089600A ,2025-06-03

← 1 2 3 4 5 →