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銅合金スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160567959
申请日
:
2016-05-16
公开(公告)号
:
JPWO2016186070A1
公开(公告)日
:
2018-03-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C22C9/01
C22C9/05
C22F1/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
銅−ガリウムスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP2017500438A
,2017-01-05
[22]
タンタル基焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012008334A1
,2013-09-09
[23]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002077317A1
,2004-07-15
[24]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP5808513B1
,2015-11-10
[25]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003100112A1
,2005-09-22
[26]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP7205999B1
,2023-01-17
[27]
スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015170534A1
,2017-04-20
[28]
スパッタリングターゲット用酸化クロム粉末及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006134694A1
,2009-01-08
[29]
Mo系スパッタリングターゲット板,および,その製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008084863A1
,2010-05-06
[30]
高純度チタンインゴット、その製造方法及びチタンスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013122069A1
,2015-05-11
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