在晶体生长过程中使用的硅熔体的锶掺杂

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专利类型
发明
申请号
CN00805045.7
申请日
2000-03-14
公开(公告)号
CN1343264A
公开(公告)日
2002-04-03
发明(设计)人
R·J·菲利浦 S·J·克尔特纳 J·D·霍德尔
申请人
申请人地址
美国密苏里
IPC主分类号
C30B1510
IPC分类号
C30B1500 C30B2906
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
王杰
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
在晶体生长过程中使用的硅熔体的钡掺杂 [P]. 
R·J·飞利普斯 ;
S·J·克勒特尼尔 ;
J·D·赫德尔 .
中国专利 :CN1166822C ,2002-04-03
[2]
在晶体生长过程中具有熔体掺杂功能的晶体生长装置 [P]. 
郑沉 ;
方峰 ;
邓德辉 ;
孙韶辉 ;
周旗钢 .
中国专利 :CN101173368A ,2008-05-07
[3]
晶体生长过程中的液态硅的电磁抽吸 [P]. 
H·W·科布 .
中国专利 :CN101133192B ,2008-02-27
[4]
用于人工晶体生长过程中的称量装置 [P]. 
李留臣 ;
冯金生 ;
袁长路 ;
李杰 ;
束天和 .
中国专利 :CN102995113A ,2013-03-27
[5]
一种防止CBO晶体生长过程掉入熔体的方法 [P]. 
王昌运 .
中国专利 :CN106637407A ,2017-05-10
[6]
一种防止晶体生长过程中晶体开裂的方法 [P]. 
余剑云 ;
佟辉 ;
郑伟 ;
张学锋 ;
赵科新 ;
郭东民 .
中国专利 :CN105648522A ,2016-06-08
[7]
用于在锗晶体生长过程中粘出脏料的方法 [P]. 
张路 ;
于洪国 ;
林泉 ;
杜长岭 ;
赵哲 .
中国专利 :CN111809237B ,2020-10-23
[8]
用于晶体生长过程中温度控制的方法和系统 [P]. 
薛抗美 ;
刘林艳 ;
高海棠 .
中国专利 :CN112080794A ,2020-12-15
[9]
单晶硅生长过程中粘壁硅的去除方法 [P]. 
张俊宝 ;
刘浦锋 ;
宋洪伟 ;
陈猛 .
中国专利 :CN105951175A ,2016-09-21
[10]
用于控制晶体生长过程期间气体掺杂剂蒸发速率的系统及方法 [P]. 
胡杰 ;
曾贤达 ;
吴俊升 ;
W·L·卢特尔 ;
陈亮钦 ;
S·巴哈加瓦特 ;
卡瑞喜玛·玛莉·哈德森 ;
吴雨樵 .
中国专利 :CN120225734A ,2025-06-27