气体注入装置及包括其的基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711104240.6

申请日：

2017-11-10

公开(公告)号：

CN108070845A

公开(公告)日：

2018-05-25

发明(设计)人：

李钟喆申宰哲郑珉和郑淑真崔釿奎李晶桓

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

弋桂芬

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-25	公开	公开
2019-07-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20171110
2021-07-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 16/455 申请公布日:20180525

共 50 条

[1]

气体供给模块及包括其的基板处理装置 [P].

金刚熙 ;

金荣敏 ;

金重吉 ;

金贤 ;

郑玟煜 .

韩国专利 :CN120072609A ,2025-05-30

[2]

气体注入装置及并入气体注入装置的基板处理腔室 [P].

阿古斯·索菲安·查德拉 ;

卡利安吉特·戈什 ;

克里斯托弗·S·奥尔森 ;

乌梅什·M·科卡尔 .

中国专利 :CN105431928A ,2016-03-23

[3]

开闭装置及包括其的基板处理装置 [P].

韩容基 .

中国专利 :CN211654790U ,2020-10-09

[4]

防止基板下垂装置及包括其的基板处理装置 [P].

李俊弧 ;

李在元 ;

郑基正 ;

李载鸿 ;

金炯剟 .

中国专利 :CN208422891U ,2019-01-22

[5]

基板搬送装置及包括其的基板处理装置 [P].

篠原敬 .

日本专利 :CN121107067A ,2025-12-12

[6]

基板支撑模块及包括其的基板处理装置 [P].

梁承悦 ;

朴暻完 .

韩国专利 :CN117936451A ,2024-04-26

[7]

基板支撑组件及包括其的基板处理装置 [P].

卢载旻 ;

李主日 ;

朴健溶 .

中国专利 :CN112216646A ,2021-01-12

[8]

基板处理装置及包括其的基板处理系统及基板处理方法 [P].

崔东旻 ;

都垈用 ;

朴奇洪 .

韩国专利 :CN117761976A ,2024-03-26

[9]

液体供应装置及包括其的基板处理装置 [P].

金康卨 ;

金兑根 ;

李炅珉 .

韩国专利 :CN118073227A ,2024-05-24

[10]

薄膜形成装置及包括其的基板处理装置 [P].

朴培浣 ;

崔孝兆 ;

姜声根 .

韩国专利 :CN120779669A ,2025-10-14

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